C10100 Pipe di rame per applicazioni alte sottovuoto
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C10100 Pipe di rame per applicazioni alte sottovuoto

C10100 ha un'eccellente duttilità e può essere sottoposto a lavoro freddo/caldo, disegno, timbratura, ecc. È adatto alla produzione di parti di precisione con forme complesse.
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introduzione al prodotto

 

C10100 è un rame (OFC) privo di ossigeno (OFC) di alta purezza, che soddisfa lo standard ASTM e appartiene al tipo di materiale di rame puro di fascia alta. La sua caratteristica fondamentale è un contenuto di ossigeno estremamente basso (di solito inferiore o uguale allo 0,0005%), controllando rigorosamente altri elementi di impurità (come zolfo, fosforo, ecc.), La purezza può raggiungere più del 99,99%.

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Proprietà meccaniche
Proprietà Condizioni
T( grado ) Trattamento
Densità(× 1000 kg/m3) 8.8-8.94 25  
Il rapporto di Poisson 0.34 25  
Modulo elastico(GPA) 117 25  
Resistenza alla trazione(MPA) 221-455 25 (prodotti piatti, asta, filo, tubo, tubo, forme)
Forza di snervamento(MPA) 69-365
Allungamento (%) 55
Riduzione nell'area (%)  
Nota: l'allungamento viene misurato in 4 pollici.

Principali applicazioni di rame privo di ossigeno C10100
1. Industria elettrica ed elettronica
Fili e conduttori: utilizzati in cavi ad alta frequenza, bobine superconduttori e fili per componenti elettronici di precisione per garantire la trasmissione a bassa perdita di segnali.
Dispositivi elettronici a vuoto: come magnetroni, tubi d'onda itineranti, condensatori a vuoto, ecc., Per evitare la rottura della scarica a causa di caratteristiche prive di ossigeno.
Produzione di semiconduttori: come componente interno delle apparecchiature di elaborazione del wafer per prevenire la contaminazione.
2. Applicazione del vuoto e ambiente ad alta purezza
Sigillamenti a vuoto: utilizzato in veicoli spaziali, pedali a gas di particelle e altri sistemi a vuoto per evitare l'inquinamento da suscitare.
Attrezzatura a vuoto ultra-alto (UHV): come pompe molecolari, camere di rivestimento a vuoto, ecc.

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