C10100 Pipe di rame per applicazioni alte sottovuoto
C10100 è un rame (OFC) privo di ossigeno (OFC) di alta purezza, che soddisfa lo standard ASTM e appartiene al tipo di materiale di rame puro di fascia alta. La sua caratteristica fondamentale è un contenuto di ossigeno estremamente basso (di solito inferiore o uguale allo 0,0005%), controllando rigorosamente altri elementi di impurità (come zolfo, fosforo, ecc.), La purezza può raggiungere più del 99,99%.

| Proprietà meccaniche |
| Proprietà | Condizioni | ||
| T( grado ) | Trattamento | ||
| Densità(× 1000 kg/m3) | 8.8-8.94 | 25 | |
| Il rapporto di Poisson | 0.34 | 25 | |
| Modulo elastico(GPA) | 117 | 25 | |
| Resistenza alla trazione(MPA) | 221-455 | 25 | (prodotti piatti, asta, filo, tubo, tubo, forme) |
| Forza di snervamento(MPA) | 69-365 | ||
| Allungamento (%) | 55 | ||
| Riduzione nell'area (%) | |||
| Nota: l'allungamento viene misurato in 4 pollici. | |||
Principali applicazioni di rame privo di ossigeno C10100
1. Industria elettrica ed elettronica
Fili e conduttori: utilizzati in cavi ad alta frequenza, bobine superconduttori e fili per componenti elettronici di precisione per garantire la trasmissione a bassa perdita di segnali.
Dispositivi elettronici a vuoto: come magnetroni, tubi d'onda itineranti, condensatori a vuoto, ecc., Per evitare la rottura della scarica a causa di caratteristiche prive di ossigeno.
Produzione di semiconduttori: come componente interno delle apparecchiature di elaborazione del wafer per prevenire la contaminazione.
2. Applicazione del vuoto e ambiente ad alta purezza
Sigillamenti a vuoto: utilizzato in veicoli spaziali, pedali a gas di particelle e altri sistemi a vuoto per evitare l'inquinamento da suscitare.
Attrezzatura a vuoto ultra-alto (UHV): come pompe molecolari, camere di rivestimento a vuoto, ecc.

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